《高纯铬靶材编制说明》.doc

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《高纯铬靶材》国家标准

编制说明

一、工作简况

1.1任务来源

根据国家标准化管理委员会《关于下达2026年第二批推荐性国家标准计划及相关标准外文版计划的通知》（国标委发〔2026〕XX号）的要求，由宁波江丰电子材料股份有限公司负责起草《高纯铬靶材》国家标准。项目计划编号：xxxxx，计划完成年限为2027年12月。

1.2标准制定的必要性

在半导体制造及平板显示领域，掩膜版是光刻工艺的核心母版，其性能直接决定图形转移精度与终端器件可靠性。其中，遮光层作为掩膜版的功能核心，普遍采用磁控溅射工艺在石英基板上沉积的方式制备。铬材料凭借优异的化学稳定性、高抗