CN202411757518.X-一种等离子体处理装置及控制方法-发明公开.pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约1.78万字
  • 约 17页
  • 2026-06-05 发布于重庆
  • 举报

CN202411757518.X-一种等离子体处理装置及控制方法-发明公开.pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN122136251A

(43)申请公布日2026.06.02

(21)申请号202411757518.X

(22)申请日2024.12.02

(71)申请人中微半导体设备(上海)股份有限公

地址201201上海市浦东新区金桥出口加

工区(南区)泰华路188号

(72)发明人宋靖鹏李开元

(74)专利代理机构上海元好知识产权代理有限

公司31323

专利代理师王振徐雯琼

(51)Int.Cl.

H01J37/32(2006.01)

B08B7/00(2006.01)

B08B13/00(2006.01)

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档