《角度X射线法测量纳米多层涂层的调制周期》.pdfVIP

GB/T4957-XXXX

小角度X射线法测量纳米多层涂层的调制周法

1范围

本文件阐明了通过包括X射线反射（X-rayreflection，简称XRR）和掠入射X射线衍

射（GrazingIncidenceX-raydiffraction，简称GIXRD）在内的小角度X射线方法对纳米多层

涂层进行调制周期测试的基体条件和测试条件（包括小角度X射线方法的原理、涂层的要

求、X射线测量仪器的要求、仪器和样品的校准以及测试条件和计算过程）。

2规范性引用文件

本文件中没有规范性引用文件。

3术语和定义

本文件未列出任何术语和定义。

ISO和IEC维护的标准化工作中使用的术语数据库网址如下：

-ISO在线浏览平台

-IEC电子百科

4样品基体条件

考虑到工业用工具或模具的表面通常不具备测试所需的粗糙度，所以有必要提供具有相

同基体和表面条件的测试样品。在制备涂层之前，测试样品基体表面粗糙度R应小于50nm