CN119654597A 抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 （东京应化工业株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119654597A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202380057509.7

(22)申请日2023.07.27

(30)优先权数据

2022-1280642022.08.10JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.27

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0276252023.07.27

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/034422JA2024.02.15

(71)申请人东京应化工业株式会社地址日本国神奈川县

(72)发明人岩下勇介齐藤彩米村幸治中川裕介

(74)专利代理机构上海立群专利代理事务所(普通合伙)31291

专利代理师毛立群

(51)Int.Cl.

G03F7/039(2006.01)

C08F212/14(2006.01)

G03F7/20(2006.01)

权利要求书3页说明书76页附图1页

(54)发明名称

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法

(57)摘要

一种抗蚀剂组合物，含有：具有以通式(a0_1)表示的结构单元(a01)和以通式(a10_1)表示的结构单元(a10)的树脂成分(A1)、以及具有以通式(d0_r)表示的基团的化合物(D0)。式