CN119876987A 一种pem电解槽结构及其制造方法 (武汉华工激光工程有限责任公司).pdfVIP

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  • 2026-06-06 发布于重庆
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CN119876987A 一种pem电解槽结构及其制造方法 (武汉华工激光工程有限责任公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119876987A

(43)申请公布日2025.04.25

(21)申请号202411925526.0C25B1/04(2021.01)

B23K1/00(2006.01)

(22)申请日2024.12.25

B23K3/08(2006.01)

(71)申请人武汉华工激光工程有限责任公司

地址430000湖北省武汉市东湖新技术开

发区未来二路66号华工科技精密微纳

智能制造产业园

申请人华工科技产业股份有限公司

(72)发明人李维杨田

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