CN119654385A 用于材料拋光的方法及材料 （恩特格里斯公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119654385A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202380058121.9

(22)申请日2023.08.09

(30)优先权数据

63/397,3362022.08.11US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.07

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0298262023.08.09

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/035770EN2024.02.15

(71)申请人恩特格里斯公司地址美国马萨诸塞州

(72)发明人R·K·辛格S·德

A·D·维尔马

(74)专利代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司11287

专利代理师李婷

(51)Int.Cl.

C09G1/02(2006.01)

C09K3/14(2006.01)

H01L21/306(2006.01)

权利要求书2页说明书8页附图5页

(54)发明名称

用于材料拋光的方法及材料

(57)摘要

CN119654385A本公开描述一种用以减小表面的粗糙度的浆料组合物，例如包含碳化硅、氧化铝、金刚石及碳的多晶材料。本公开还可应用于单晶材料(例如，碳化硅、

CN119654385A

CN119