CN119668034A 一种改善光刻胶涂胶均匀度的方法及系统 （江苏中科智芯集成科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119668034A

(43)申请公布日2025.03.21

(21)申请号202510191174.9

(22)申请日2025.02.20

(71)申请人江苏中科智芯集成科技有限公司

地址221000江苏省徐州市经济技术开发

区创业路26号凤凰湾电子信息产业园

101-106厂房

(72)发明人童媛位亮亮徐晨龙史玉芬

(74)专利代理机构广州三环专利商标代理有限

公司44202

专利代理师陈刚

(51)Int.Cl.

G03F7/16(2006.01)

B05D1/00(2006.01)

H01L21/027(2006.01)

权利要求书2页说明书9页附图4页

(54)发明名称

一种改善光刻胶涂胶均匀度的方法及系统

(57)摘要

CN119668034A本发明提供了一种改善光刻胶涂胶均匀度的方法及系统，该方法包括确定一晶圆并进行预处理，得到涂胶基底；配置光刻胶溶液；令涂胶基底转动并使涂胶喷嘴沿涂胶基底直径方向水平移动，以在涂胶基底上喷洒光刻胶溶液；将喷洒光刻胶溶液后的涂胶基底烘干；涂胶喷嘴的喷射量为10~50ul/s，光刻胶溶液的固体含量为15%。在其它条件相同的情况下，将涂胶喷嘴的喷射量控制为10~50ul/s且光刻胶溶液的固体含量配置为15