原创力文档全球市场研究报告
半导体用商业光掩模，是指芯片制造企业不依靠内部自制产能，而是从独立第三方专业掩模厂商采购的光
刻掩模版，属于半导体光刻环节的核心关键耗材。它以高纯度石英为基底，通过纳米级精密加工形成电路图
形结构，在芯片制造过程中承担将设计版图精准转移到晶圆光刻胶上的功能，广泛应用于晶圆前道制造、先
进封装、特色工艺制程等场景。与企业自制掩模相比，外部光掩模更强调市场化供应、专业化生产和第三方
交付，是半导体产业链分工细化下的主流采购形式，也是绝大多数fabless设计公司、中小型晶圆厂实现芯
片流片与量产的必备基础材料。
据QYResear
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