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- 2026-06-11 发布于福建
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;;;标准目的与背景;;锡须(TinWhisker)
定义:从锡或锡合金镀层表面自发生长的单晶或多晶须状结构,直径通常为0.1~10μm,长度可达数百微米。
形成机理:包括应力释放、晶界扩散、电化学迁移等,标准中详细列举了促进锡须生长的内因(镀层应力)与外因(环境温湿度)。
环境接收条件(EnvironmentalAcceptanceCriteria)
定义:半导体器件在特定环境应力下,锡须生长长度、密度等参数不得超过的阈值(如长度≤50μm)。
测试方法:规定恒定温湿度试验(1000小时)、热循环试验(500次循环)等加速老化流程,并明确显微镜观测的放大倍数与统计方法。;;;锡须形成机制;基底材料特性;;;环境测试条件设定;;风险等级划分;;测试程序步骤;设备与工具要求;数据记录规范;;;;异常情况处理;;半导体制造工艺控制;;文档报告要求;
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