CN119731771A 基板处理装置、排气系统以及半导体装置的制造方法 （株式会社国际电气）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119731771A

(43)申请公布日2025.03.28

(21)申请号202380060468.7

(22)申请日2023.03.24

(30)优先权数据

2022-1457132022.09.14JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.18

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0120152023.03.24

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/057588JA2024.03.21

(71)申请人株式会社国际电气

地址日本

(72)发明人高桥