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- 2026-06-22 发布于北京
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电子气体六氟化钨标准立项发展报告
英文标题
StandardizationDevelopmentReport:Electronicgas—Tungstenhexafluoride
摘要
关键词
中文关键词:GB/T32386-2026;六氟化钨;电子气体;国家标准;半导体材料;化学气相沉积;纯度分析;标准化
EnglishKeywords:GB/T32386-2026;Tungstenhexafluoride;Electronicgas;Nationalstandard;Semiconductormaterials;Chemicalvapordeposition;Purityanalysis;Standardization
正文
1.引言
随着人工智能、5G通信、物联网等新兴技术的蓬勃发展,全球半导体产业进入新一轮的快速增长期。作为半导体制造过程中不可或缺的关键材料,电子气体的质量直接决定了集成电路的集成度、性能和可靠性。六氟化钨(WF?)是一种无色、无味、剧毒的高纯度气体,在极高温度下化学性质稳定,但在适当的反应条件下,可被还原为金属钨(W)沉积在晶圆表面。由于其优异的沉积速率和膜层均匀性,WF?已成为先进逻辑芯片及存储芯片制造中金属互连层的主要原料之一。
当前,全球半导体产业正加速向中国大陆转移,我国已成为全球最大的半导体消
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