CN119744439A 半导体装置及半导体装置的制造方法 （株式会社东芝）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119744439A

(43)申请公布日2025.04.01

(21)申请号202480003743.6

(22)申请日2024.03.06

(30)优先权数据

2023-1247832023.07.31JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.19

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2024/0086022024.03.06

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2025/027922JA2025.02.06

(71)申请人株式会社东芝地址日本

申请人东芝电子元件及存储