SEMI F61-0521 中文版 半导体超纯水系统设计和操作指南.docxVIP

SEMIF61-0521中文版半导体超纯水系统设计和操作指南

标准基础信息

标准编号：SEMIF61-0521:2021

标准英文原名：GuideforDesignandOperationofaSemiconductorUltrapureWaterSystem

发布机构：国际半导体产业协会（SEMI）

发布日期：2021年05月

替代版本：SEMIF61-0315

关联配套标准：SEMIF63（超纯水水质指标）、SEMIF75（超纯水在线监测规范）、SEMIE49（高纯管道系统规范）

适用场景：8英寸/12英寸晶圆厂、先进封装厂、面板半导体产线全制程超纯水（UPW）制备、输送、使用全流程

编制说明：本文为官方标准完整汉化版，同步补充国内半导体工厂工程落地经验、国标对标条款、现场运维实操细则，兼顾标准合规性与现场落地性，可直接用于新项目设计审图、现有系统改造、运维人员培训、第三方审厂核查。

第1章范围与规范性引用文件

1.1适用范围

本指南规定了半导体制造厂区超纯水（UPW）整套系统的设计准则、设备选型、管道布局、安装施工、调试验证、日常运行、预防性维护、故障应急、安全管控全维度技术要求。

覆盖系统全域：原水预处理系统、纯水制备补给水系统、终端抛光系统、闭环分配管网、机台接驳管路、在线监测系统、废水回用联动系统。

本指南核心目标：严控超纯水全