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2026年半导体原料制备工专项题库.pdf

2026年半导体原料制备工专项题库.pdf

    半导体原料制备工专项题库

    一、单选题(只有一个正确答案)

    1.在半导体原料制备过程中，高纯度多晶硅通常采用哪种提纯工艺制备？

    A.区域熔炼法

    B.氟化硅氢还原法

    答案:B

    解析：多晶硅生产的主流工艺是改良西门子法，即三氯氢硅氢还原法，而区域熔炼

    法通常用于制造单晶硅锭。

    2.三氯氢硅(SiHCI3)合成过程中，还原工段使用的还原气体通常是指？

    A.氢气(H2)

    B.氮气(N2)

    答案：A

    解析：氢气作为还原剂，在三氯氢硅氢还原反应中充当还原剂的角色，将三氯氢硅

    还原为多晶硅。

    3.在半导体多晶硅的拉

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