CN119790352A 半导体装置的制造方法以及半导体基板 （株式会社东芝）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119790352A

(43)申请公布日2025.04.08

(21)申请号202380062940.0

(22)申请日2023.11.17

(30)优先权数据

2023-1251242023.07.31JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.28

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0414542023.11.17

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2025/027873JA2025.02.06

(71)申请人株式会社东芝

地址日本

申请人东芝电子元件及存