CN119775659A 一种双通路抗静电薄膜及其制备方法 (浙江金田高分子材料研究院有限公司).pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约9.41千字
  • 约 8页
  • 2026-06-29 发布于重庆
  • 举报

CN119775659A 一种双通路抗静电薄膜及其制备方法 (浙江金田高分子材料研究院有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119775659A

(43)申请公布日2025.04.08

(21)申请号202411846297.3C08L51/06(2006.01)

C08L77/00(2006.01)

(22)申请日2024.12.16

C08L71/00(2006.01)

(71)申请人浙江金田高分子材料研究院有限公C08L79/04(2006.01)

C08L49/00(2006.01)

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档