CN119812115A 防止一体化刻蚀工艺中缺陷及制备金属互联结构的方法 （合肥晶合集成电路股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119812115A

(43)申请公布日2025.04.11

(21)申请号202510298242.1

(22)申请日2025.03.13

(71)申请人合肥晶合集成电路股份有限公司

地址230012安徽省合肥市新站区合肥综

合保税区内西淝河路88号

(72)发明人王晓玉张晓亮

(74)专利代理机构武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222

专利代理师杨宏伟

(51)Int.Cl.

H01L21/768(2006.01)

权利要求书2页说明书8页附图6页

(54)发明名称

防止一体化刻蚀工艺中缺陷及制备金属互

联结构的方法

(57)摘要

CN119812115A本发明公开了一种防止一体化刻蚀工艺中缺陷及制备金属互联结构的方法，首先在具有第一金属层的目标晶圆上制作多层膜结构，然后利用一体化刻蚀工艺在多层膜结构制作露出第一金属层的槽口；刻蚀完成后，在除电工序中通入CO/N2组合气体作为等离子气体，在槽口表面沉积稳定的隔离保护层，以隔离刻蚀过程中在槽口产生的残留聚合物；除电完成后，将晶圆顶起转移至晶圆盒中；将晶圆盒中晶圆转移至湿法清洗工艺，清洗沉积金属层；采用CMP工艺去掉多余的金属层和多层膜结构，完成金属互联结构的制作；本发明通过改进除电工序防止一体化刻蚀