CN119817196A 像素隔离结构及其制造方法 （应用材料公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119817196A

(43)申请公布日2025.04.11

(21)申请号202380065937.4

(22)申请日2023.08.30

(30)优先权数据

63/406,9292022.09.15US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.13

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0731292023.08.30

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/059434EN2024.03.21

(71)申请人应用材料公司

地址美国加利福尼亚州

(72)发明人李志勇

斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘

库兰代韦鲁·西瓦南丹郁昊

浩·T·黄奈格·帕蒂班德拉

朱鸣伟徐立松丁凯

(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理

有限公司11006

专利代理师徐金国吴启超

(51)Int.Cl.

H10H29/30(2025.01)

H10H29/85(2025.01)

H10H29/851(2025.01)

H10H29/854(2025.01)

H10H29/01(2025.01)

权利要求书2页说明书10页附图4页

(54)发明名称

像素隔离结构及其制造方法

(57)摘要

CN119