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- 2026-07-02 发布于上海
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目录
01
研究背景与技术驱动力
02
超短脉冲激光的基本原理与技术优势
03
电互连中的关键加工方法与材料体系
04
光互连功能结构的激光微纳制造
05
典型应用场景与产业化进展
06
挑战分析与未来发展方向
研究背景与技术驱动力
01
微电子与光电子器件集成化趋势对互连技术提出更高要求
集成度提升
芯片向纳米级发展,集成度不断提高。高密度布线加剧互连复杂性。传统电互连面临性能瓶颈。
电互连瓶颈
高频下出现延迟与功耗问题。串扰严重降低信号质量。难以满足未来高性能需求。
热管理挑战
高集成导致热流密度激增。传统加工易造成热损伤。器件可靠性受到显著影响。
冷加工需求
减少热效应成为制造关键。冷加工技术可避免材料损伤。提升工艺兼容性与稳定性。
光互连优势
具备大带宽与低干扰特性。有效克服电互连局限。支持高速高效数据传输。
光电共封装
电互连与光互连协同设计。在同一衬底集成不同系统。推动封装技术革新。
多材料集成
需整合多种功能材料。结构复杂性大幅提升。对工艺精度提出更高要求。
制造新挑战
要求工艺灵活且兼容。实现纳米级精密控制。应对三维集成综合难题。
传统加工手段在精度、热损伤和材料适应性方面面临瓶颈
精度受限
传统光刻技术受衍射极限制约,难以实现亚微米级高精度互连结构加工。电子束曝光虽精度较高,但效率低、成本高,难以满足大规模集成需求。
热损伤显著
连续激光或长脉冲激
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