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气相沉积气体流量控制标准

气相沉积气体流量控制标准

一、气体质量流量控制器的选型与基本精度控制标准

在气相沉积工艺中，无论是化学气相沉积（CVD，含LPCVD、PECVD、ALD）还是物理气相沉积（PVD，含磁控溅射、蒸发、离子束辅助沉积），反应气体、载气、保护气及清洗气体的流量稳定性与设定准确性直接决定薄膜的厚度均一性、组分化学计量比、结晶质量与批次重复性。因此，建立严格的气体流量控制标准是气相沉积系统设计与日常工艺管控的首要环节。核心测控元件为气体质量流量控制器（MassFlowController，简称MFC），其选型须满足电子行业标准SJ/T10583-2016《气体质量流量控