CN119291821A 一种图形化低内应力高反射层及制备方法和应用 (长沙韶光芯材科技有限公司).pdfVIP

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  • 2026-07-07 发布于重庆
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CN119291821A 一种图形化低内应力高反射层及制备方法和应用 (长沙韶光芯材科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119291821A

(43)申请公布日2025.01.10

(21)申请号202411803509.XG03F1/52(2012.01)

C23C14/18(2006.01)

(22)申请日2024.12.10

C23C14/06(2006.01)

(71)申请人长沙韶光芯材科技有限公司C23C14/35(2006.01)

地址410129湖南省长沙市中国(湖南)自

C23C

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