CN119439645A 光刻工艺控制方法、装置、设备及存储介质 （成都泰美克晶体技术有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119439645A

(43)申请公布日2025.02.14

(21)申请号202411800538.0

(22)申请日2024.12.09

(71)申请人成都泰美克晶体技术有限公司

地址611730四川省成都市高新区天映路

136号

(72)发明人王先付王传凯付智林

(74)专利代理机构成都市智恒博雅知识产权代

理事务所(普通合伙)51379

专利代理师吴啸寰

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书10页附图3页

(54)发明名称

光刻工艺控制方法、装置、设备