磁场环境下BiFeO3基薄膜的制备工艺与性能调控研究.docx

磁场环境下BiFeO3基薄膜的制备工艺与性能调控研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学领域，多铁性材料因其独特的物理性质和广泛的应用前景，成为了研究的焦点之一。其中，BiFeO?基薄膜作为一种典型的多铁性材料，展现出了优异的铁电、铁磁和压电等性能，在信息存储、传感器、自旋电子学等诸多领域具有巨大的潜在应用价值，吸引了众多科研人员的深入研究。

BiFeO?是一种具有正交钙钛矿结构的化合物，其居里温度高达1103K，尼尔温度为643K，这使得它在室温下能够同时保持铁电性和反铁磁性，成为少数在室温下具有多铁性的材料之一。这种特殊的多铁性质，为其在多功能器件中的应用提供了可能。例