高纯铜化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法标准化发展研究报告.docx

高纯铜化学分析方法痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法标准化发展报告

StandardizationDevelopmentReportforMethodsforChemicalAnalysisofHighPurityCopper–DeterminationofTraceImpurityElementsContent–GlowDischargeMassSpectrometry

摘要

本报告围绕行业标准YS/T922-2013《高纯铜化学分析方法痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法》的修订工作，系统阐述了该标准的技术背景、修订必要性、主要内容及行业影响。高纯铜作为电子信息、航空航天、新能源等领域的关键基础材料，其纯度水平直接影响高端产品的性能与可靠性。辉光放电质谱法（GD-MS）凭借其高灵敏度、多元素同时测定、固体样品直接分析等优势，已成为高纯铜痕量杂质分析的主导技术。随着我国高纯铜产业规模的持续扩大和纯度等级的不断提升，原有标准在技术指标、检测范围、仪器适用性等方面已难以满足当前产业需求。本次修订由国标（北京）检验认证有限公司牵头，联合金川集团股份有限公司、国合通用测试评价有限公司、有研亿金新材料有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司等多家行业骨干单位共同完成。修订工作严格遵循GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1