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基于激光干涉仪的纳米级位移测量与闭环控制

摘要

精密定位技术是半导体制造、超精密加工与扫描探针显微镜等领域的核心支撑，其对位移测量与控制的分辨率需求已进入亚纳米量级。

本课题设计一套基于外差激光干涉原理的纳米级位移测量与闭环控制系统，目标是实现压电陶瓷执行器（PZT）的亚纳米分辨率位移反馈与优于1nm的定位精度。

全文遵循“需求分析→总体设计→详细设计→实现→测试”的工程递进逻辑。

第一章分析纳米定位的迫切需求与现有方案的不足；第二章论证外差干涉、PZT驱动与数字锁相环等关键技术；第三章明确系统功能与性能指标；第四章给出光路、信号处理与控制的总体架构；第五章细化干涉光路、相位解调与PID控制算法；第六章阐述光路搭建、FPGA信号处理与闭环控制的具体实现；第七章通过实验验证位移分辨率、线性度与定位精度；第八章总结成果并指出改进方向。

本设计的核心特色在于融合双频激光干涉的高分辨力优势与全数字闭环控制架构，通过现场可编程逻辑阵列（FPGA）实时解调相位并驱动PZT，实现了亚纳米级闭环定位，为高精密运动平台提供了一种紧凑、可靠的测控方案。

第一章绪论

1.1研究背景

在半导体光刻机中，工件台的定位精度直接决定芯片特征尺寸的制造极限，当前最先进的极紫外光刻（EUV）系统要求套刻精度达到亚纳米级，这对位移测量与反馈控制提出了前所未有的挑战。

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