CN120020647A 基片处理系统、基片处理装置和可视化方法 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN120020647A

(43)申请公布日2025.05.20

(21)申请号202411617093.2

(22)申请日2024.11.13

(30)优先权数据

2023-1967872023.11.20JP

2024-1599042024.09.17JP

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本

(72)发明人宫窪祐允

(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限

公司11322

专利代理师龙淳刘芃茜

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

H01L21/67(2006.01)

G03F7/26(2006.01)

G03B17/48(2021.01)

G03F7/00(2006.01)

权利要求书3页说明书16页附图14页

(54)发明名称

基片处理系统、基片处理装置和可视化方法

(57)摘要

CN120020647A本发明提供能够容易地使基片处理装置内的流体的流动的分布可视化的系统。基片处理系统(1)包括：基片处理装置(50)，其具有收纳基片(W)的收纳空间(A1)；朝向收纳空间(A1)的摄像机(81)；图案(82)，其被设置成在摄像机(81)的视野内展现，能够经由收纳空间(A1)被摄像机(81)拍摄；和映像生成部