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光学玻璃专用清洗剂的类型及性能要求

光学玻璃在加工工艺流程中，需要清洗玻璃表面的切削液、研磨粉、油污、手指印等污染物，要求清洗干净无残留，不损伤基材表面。传统溶剂型清洗剂中，会有大量的溶剂挥发，存在易燃易爆、残留污染、易腐蚀光学玻璃等弊端。目前，光学玻璃水基清洗剂得到突飞猛进的发展，根据加工工序、污染物类型、玻璃材质差异，可选用不同类型清洗剂，同时需满足严苛的基材兼容、去污、环保等性能标准。

一、光学玻璃常用清洗剂类型

1.水基清洗剂

对于研磨后、镀膜前后的清洗多用水基型光学玻璃清洗剂，以表面活性剂为核心成分，复配碱性助剂、螯合剂、缓蚀剂等功能性成分制备而成。但容易存在碱性过高，导致玻璃发生碱蚀现象、白点现象、发毛腐蚀现象等。

通过调整配方中缓蚀剂的配比与种类，可以有效控制体系的碱度，缓解光学玻璃尤其是易蚀玻璃的碱蚀问题，减少白点、发蒙等损伤的形成，适配不同材质光学玻璃的清洗需求。

2.半水基清洗剂

对于光学玻璃固定蜡及镜片粘接溢胶的清洗，常采用半水基清洗剂，一般由有机溶剂、表面活性剂和水复配而成，结合了溶剂型清洗剂去污能力强和水基清洗剂环保安全的优势，相比纯溶剂型清洗剂挥发性更低，闪点更高，安全性更强，成本也更低。不过半水基清洗剂使用后通常需要进行二次漂洗，才能彻底去除残留的清洗组分，避免在玻璃表面留下痕迹影响光学性能。

二、对清洗剂的性能要求

（1）高效去污性能。清洗剂需具备优