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电弧离子镀过程中脉冲偏压对TiCN薄膜的影响

摘要

本研究聚焦电弧离子镀过程，深入探讨脉冲偏压对TiCN薄膜的影响。通过改变脉冲偏压参数，系统研究其对TiCN薄膜沉积速率、组织结构、表面形貌、硬度及耐磨性等性能的作用机制。研究结果表明，脉冲偏压在TiCN薄膜的制备过程中发挥着关键作用，合理调整脉冲偏压可有效优化薄膜性能，为电弧离子镀制备高性能TiCN薄膜提供理论与实践依据。

关键词

电弧离子镀；脉冲偏压；TiCN薄膜；薄膜性能

一、引言

TiCN薄膜凭借其优异的硬度、耐磨性、耐腐蚀性以及良好的化学稳定性，在机械加工、模具制造、航空航天等众多领域得到广泛应用。电弧离子镀作为一种高效的薄膜制备技术，能够在较低温度下制备高质量的TiCN薄膜。在电弧离子镀过程中，脉冲偏压是影响薄膜性能的重要工艺参数之一。脉冲偏压通过改变离子的能量和轰击行为，对薄膜的生长过程产生显著影响，进而影响薄膜的微观结构和宏观性能。深入研究脉冲偏压对TiCN薄膜的影响，对于优化电弧离子镀工艺、提高TiCN薄膜性能具有重要意义。

二、实验方法

（一）实验设备

采用电弧离子镀设备进行TiCN薄膜的制备。该设备主要包括真空室、电弧蒸发源、脉冲偏压电源、气体流量控制系统等部分。真空室采用不锈钢材质，可通过机械泵和分子泵将其抽至较高真空度。电弧蒸发源用于蒸发Ti靶材，为薄膜沉积提供