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氮化硅材料的制备及其在电子器件中的应用

氮化硅材料是一种优良的半导体材料,其物理性质和结构与硅

非常相似。氮化硅材料的广泛应用领域涵盖了电力、光电子、微

电子、生物医学等领域。本文将介绍氮化硅材料的制备方法及其

在电子器件中的应用。

制备方法

目前,氮化硅材料的制备方法主要有两种,一种是物理气相沉

积(physicalvapordeposition,PVD)方法,另一种是化学气相沉积

(chemicalvapordeposition,CVD)方法。其中,CVD方法是制备氮

化硅材料的主要方法。

CVD方法是将气态前驱

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