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2026年新大型半导体设备安全员考试题库及答案

一、单项选择题（共50题，每题1分。每题的备选项中，只有1个最符合题意）

1.在2026年最新的半导体制造工艺安全规范中，针对极紫外光（EUV）光刻机的特殊防护，下列哪种辐射防护措施被认为是最高优先级的？

A.佩戴铅橡胶围裙以阻挡散射电子

B.确保光刻机腔体处于完全负压状态以防止激光泄漏

C.严格屏蔽高压产生的X射线并配置联锁装置

D.使用普通的激光防护眼镜即可

【答案】C

【解析】EUV光刻机利用高压放电或激光等离子体产生光源，此过程会产生高能X射线。虽然EUV光本身在空气中会被吸收，但伴随产生的X射线穿透力强，必须严格屏蔽并配置安全联