原子力显微镜对薄膜样品的测量.pptVIP

原子力显微镜对薄膜样品的测量演讲人：向超宇学号：0530048

内容提要背景原理和实验数据分析结论致谢提问

背景AFM是研究材料表面的重要手段由于信息技术的发展，以Fe、Co、Ni为代表的磁光性质材料备受关注验证膜参数拟合过程中对表面粗糙层计算

原理和实验AFM测量原理：微弱力的作用主要是范德华力接触方式：轻敲式setpiont20mN测量数据:表面形貌、表面硬度、表面厚度、断裂化学键或、附力

RF磁控溅射溅射是一种物理沉积过程掺Fe量5%20%本底真空（10-5Pa）8.67.8溅射真空（Pa）1.01.0溅射高压（V）520～470519～480溅射功率（W）100100溅射时间2h10min2h30min

磁控溅射示意图Si基底贴片控制掺杂比

数据和分析标准样品X：10.0μm，标准差的百分比0.1%；Y：10.1μm，标准差的百分比0%；Z：11.1nm，与标准差的百分比为88.7%。

范德华力叠加示意图

掺铁20%粗糙层平均厚度为7.053nm。拟合的粗糙层厚度为11.38nm。两者百分差为38.0%。Z方向的粗糙度R=1.082nm。

掺铁5%粗糙层平均厚度为7.164nm。拟合的粗糙层厚度为7.987nm。两者百分差为10.3%。Z方向的粗糙度R=2.494nm

膜生长掺铁5%的厚度为81.8nm，掺铁20%的厚