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- 2026-07-31 发布于天津
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2025年光量子比特制备研究试卷题库
1.光量子比特制备的主要技术路径不包括:
A.原子陷阱技术
B.量子点自旋控制
C.超导量子电路
D.光子晶体谐振器
2.目前光量子比特制备中,最难克服的技术挑战是:
A.约瑟夫森效应
B.相干时间短
C.制备重复性
D.测量效率低
3.光量子比特的相干时间主要受以下因素影响,不包括:
A.温度噪声
B.电磁干扰
C.材料缺陷
D.光谱纯度
4.以下哪种材料不适合用于制备光量子比特:
A.堆叠石墨烯
B.氮化硅
C.硅基材料
D.氢化镓
5.光量子比特制备中,常用的量子存储技术是:
A.自旋电子学
B.量子点
C.量子退火
D.原子干涉
6.光量子比特制备
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