CN119916655A 用于光刻模拟的方法、设备和介质 （全芯智造技术有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119916655A

(43)申请公布日2025.05.02

(21)申请号202510415564.X

(22)申请日2025.04.01

(71)申请人全芯智造技术有限公司

地址230088安徽省合肥市高新区创新大

道2800号创新产业园二期J2C栋13楼

(72)发明人请求不公布姓名请求不公布姓名

请求不公布姓名请求不公布姓名

(74)专利代理机构北京世辉律师事务所16093

专利代理师黄倩

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书11页附图2页

(54)发明名称