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1+X集成电路理论习题库（附参考答案）

一、单选题（共10题，每题1分，共10分）

1.“6s”的管理方式相较于“5s”，多的一项内容是（）。

A、整理

B、整顿

C、清洁

D、安全

正确答案：D

答案解析：5S即整理、整顿、清扫、清洁、素养。6S管理是5S的升级，6S即整理、整顿、清扫、清洁、素养、安全(SECURITY)。

2.当芯片移动到气轨()时，旋转台吸嘴吸取芯片。

A、任意位置

B、末端

C、首端

D、中端

正确答案：B

答案解析：当芯片移动到气轨末端时，旋转台吸嘴的升降电机到达芯片正上方，吸嘴产生一定负压将该芯片吸起，升降电机上移并后退进入旋转台，上料完成。

3.在刻蚀工艺中，有几个非常重要的参数，其中（）定义为当刻蚀线条时，刻蚀的深度V与一边的横向增加量ΔX的比值V/ΔX，比值越大，说明横向刻蚀速率小，刻蚀图形的保真度好。

A、刻蚀因子

B、刻蚀速率

C、选择比

D、均匀性

正确答案：A

答案解析：刻蚀因子定义为当刻蚀线条时，刻蚀的深度V与一边的横向增加量ΔX的比值V/ΔX，比值越大，说明横向刻蚀速率小，刻蚀图形的保真度好。刻蚀速率是指单位时间内刻蚀的厚度；选择比是指对不同材料刻蚀速率的比值；均匀性是指刻蚀在整个晶圆上的一致性程度，均不符合该描述。

4.用比色法进行氧化层厚度的检测时，看到的色彩是（）色彩。

A、干涉

B、二氧化硅本身的

C、衍射

D