无掩膜曝光光刻加速迈向量产，重塑先进封装与微纳制造新格局.docxVIP

QYResearch｜全球行业调研报告

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无掩膜曝光光刻系统（MasklessExposureLithographySystems）是指不使用固定实体光掩膜或reticle，而是将CAD、GDS等数字版图直接转换为电子束、激光束、数字调制光场或聚焦离子束的运动与曝光指令，在光刻胶、聚合物、功能材料、晶圆、玻璃、封装基板及其他微纳加工基板上完成图形写入、曝光、聚合、刻蚀、注入或材料改性的设备。与传统掩膜光刻相比，该类系统省去了掩膜设计、制造和修改环节，能够缩短产品开发周期，并适应小批量多品种、频繁版图变更、非标准基板、局部图形修正和三维微纳结构制造。需要说明的是，严格产业术语中的“masklessexposure”主要指DMD、SLM、GLV等光学曝光设备；本报告采用宽口径，将ElectronBeamLithography、DirectLaserWriting、DigitalMasklessLithography和FIBLithography统一纳入无掩膜光刻系统市场。HeidelbergInstruments将masklesslaserlithography定义为无需photomask的直接图形写入，EVGroup则将LITHOSCALE定位为适用于多种微加工场景的无掩膜曝光光刻平台。

根据QYResearch报