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光刻设备培训试题及答案

一、单选题（每题1分，共10分）

1.光刻设备中，负责将掩模版图案转移到晶圆上的主要部件是（）

A.扫描振镜B.光源C.投影透镜D.曝光掩模

【答案】C

【解析】投影透镜是光刻设备中负责将掩模版图案精确投射到晶圆上的关键部件。

2.在光刻工艺中，用于控制曝光能量的装置是（）

A.扫描振镜B.曝光计时器C.光功率调节器D.晶圆台

【答案】C

【解析】光功率调节器用于精确控制照射到晶圆上的光能量。

3.光刻设备中，用于固定晶圆的部件是（）

A.扫描振镜B.曝光掩模C.晶圆台D.投影透镜

【答案】C

【解析】晶圆台用于固定和定位晶圆，确保曝光的均匀性和精度。

4.光刻工艺中，用于提高分辨率的技术是（）

A.减反射涂层B.掩模版保护膜C.超紫外光（EUV）D.光源功率提升

【答案】C

【解析】超紫外光（EUV）技术能够显著提高光刻的分辨率。

5.光刻设备中，用于校正光学系统像差的部件是（）

A.扫描振镜B.像差校正器C.曝光掩模D.晶圆台

【答案】B

【解析】像差校正器用于校正光学系统的像差，提高成像质量。

6.光刻工艺中，用于去除未曝光区域的光刻胶的步骤是（）

A.曝光B.显影C.刻蚀D.清洗

【答案】B

【解析】显影步骤用于去除未曝光区域的光刻胶，形成所需的图案。

7.光刻设备中，用于控制晶圆运动轨迹的部件是（）

A.扫描振镜B.晶圆台C.步进马达D.控制器

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