（2026版）《集成电路布图设计保护条例》核心要点解读PPT课件.pptxVIP

2026版《集成电路布图设计保护条例》核心要点解读

自2026年10月15日起施行

目录

02

申请与审查程序完善

01

条例修订背景与总体要求

03

专有权保护强化措施

04

促进布图设计运用机制

05

权利行使与共有规定

06

实施保障与国际衔接

条例修订背景与总体要求

01

修订必要性（2001年实施后的技术发展需求）

技术迭代加速

集成电路技术从微米级演进至纳米级，集成度提升导致传统布图设计保护范围难以覆盖新型三维堆叠等复杂结构，需调整独创性认定标准。

电子设计自动化工具的广泛应用使得布图设计创作方式发生根本性变化，原有条例对工具生成设计的权属界定存在模糊地带。

先进制程下反向工程门槛降低，侵权行为更隐蔽，现行条例对实质性相似的判定缺乏可操作性细则。

EDA工具普及

侵权认定困难

既要防止过度保护阻碍技术扩散，又要通过延长保护期、提高赔偿额度激励原创设计。

平衡保护与创新

总体思路（强化保护与运用、突出问题导向）

明确组合式布图设计的独创性判断标准，区分常规设计元素与创新性布局的权责边界。

解决实践争议

参照《华盛顿条约》等国际公约，完善对外国设计者的国民待遇条款，消除跨境保护壁垒。

衔接国际规则

增设快速维权通道，建立布图设计备案公示系统，提升侵权行为查处效率。

强化行政执法

保护范围扩展（含集成光子/量子等新型集成电路）

技术范畴突破

将光子集成电路(PIC)、量子点阵