并行2D脉冲加速技术在薄层剖面成像中应用研究.pdfVIP

并行2D激励薄限片层剖面

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丹尼斯·科科林，亨宁，和·扎伊采夫1科，医学，弗赖堡大学医学，弗赖堡，德国

引言

在多层EPI应用中，如沿PE方向减少FOV的DWI中，使用2D脉冲是有利的[1‑4]。在这些方法中，激励多个薄层剖面，这些剖面在2D激励轨迹的两个编码方向上受到限制，并

沿非编码维度延伸到成像对象中。

2D脉冲的一个缺点是它们由于所需的剖面高分辨率而具有较长的持续时间。在并行激

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励（PEX）[5,6],B中，利用阵列多个元件之间的变化来抑制轨迹欠采样引起的激

励伪影。通过这种方式，使用并行射频传输可以显著缩短2D脉冲。在这项工作中，实

验研究了加速2DPEX用于选择由笛卡尔轨迹编码的受限剖面。

理论

对于笛卡尔激发轨迹（图1），在二中限制的切片厚度可以沿RO（图1A）或PE

）方向编码[3,4]。轨迹的欠采样会导致脉冲设计时定义的激发场（F

（