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第20卷第9期中国有色金属学报2010年9月Vol.20No.9TheChineseJournaloNonferrousMetalsSep.2010文章编号：1004-0609(2010)09-1795-07

氢气浓度对常压化学气相沉积ZrC涂层的影响

李国栋，郑湘林，熊翔，孙威

(中南大学粉末冶金国家重点实验室，长沙410083)

摘要：采用ZrCl?-CH?-H?-Ar体系在C/C材料基体上进行常压化学气相沉积(APCVD)制备碳化锆(ZrC)涂层。通过X射线衍射技术(XRD)和扫描电镜(SEM)对不同H?浓度下制备的ZrC涂层进行分析。对H?在沉积过程中的作用机制进行了讨论。结果表明：H?浓度对涂层的相组成、晶体的择优取向和结构形态有重要影响；无H?或H?浓度较低时，涂层含有大量的热解碳，由ZrC和碳两相组成，涂层呈多