2026年现代表面技术试题及答案.docVIP

2026年现代表面技术试题及答案

一、填空题（每题2分，共20分）

1.现代表面技术中，常用的沉积方法有__________和__________。

2.PVD技术中，__________是一种常见的物理气相沉积方法，它通过高能粒子轰击靶材来沉积薄膜。

3.CVD技术中，__________是一种常用的化学气相沉积方法，它通过化学反应在基板上沉积薄膜。

4.薄膜材料的__________是指薄膜与基板之间的结合强度。

5.薄膜的光学特性主要包括__________和__________。

6.薄膜的力学性能主要包括__________、__________和__________。

7.现代表面技术中，常用的薄膜材料有__________、__________和__________。

8.薄膜沉积过程中，__________是指薄膜的厚度均匀性。

9.薄膜沉积过程中，__________是指薄膜的成分均匀性。

10.薄膜沉积过程中，__________是指薄膜的表面形貌均匀性。

二、判断题（每题2分，共20分）

1.PVD技术比CVD技术具有更高的沉积速率。（）

2.薄膜材料的硬度越高，其耐磨性越好。（）

3.薄膜的光学特性主要受薄膜的厚度和成分影响。（）

4.薄膜的力学性能主要受薄膜的成分和结构影响。（）

5.现代表面技术中，常用的薄膜沉积