GBT 43976-2024 电子气体 四氟甲烷标准立项发展报告.docxVIP

电子气体四氟甲烷标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:ElectronicGas—CarbonTetrafluoride

摘要

关键词：电子气体；四氟甲烷；国家标准；半导体材料；纯度检测；刻蚀工艺

Keywords:ElectronicGas;CarbonTetrafluoride;NationalStandard;SemiconductorMaterials;PurityTesting;EtchingProcess

1引言

电子气体被誉为半导体产业的“血液”，是集成电路制造过程中仅次于硅片的第二大耗材，其品类超过百余种，广泛应用于薄膜沉积、离子注入、刻蚀、清洗和掺杂等核心工艺环节。在晶圆制造的全部工艺步骤中，约80%以上的环节直接或间接涉及电子气体的使用，电子气体的纯度与杂质含量控制精度直接影响芯片的线宽精度、缺陷密度及最终器件性能。随着集成电路制程节点不断向5纳米及以下演进，晶圆制造对电子气体的纯度要求已从传统的5N（99.999%）提升至6N（99.9999%）甚至更高的水平，单项金属杂质含量要求控制在十亿分之一（ppb级）乃至万亿分之一（ppt级）量级。

四氟甲烷（分子式CF?，又称四氟化碳）是电子气体家族中用量最大的含氟刻蚀气体之一。在等离子体刻蚀工艺中，CF?在射频电场作用下解离产生氟自