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参考学习资料 AI技术文件 Low-temperature plasma atomic layer etching of molybdenum via sequential oxidation and chlorination.pdf

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    Low-temperatureplasmaatomiclayer

    etchingofmolybdenumviasequential

    oxidationandchlorination

    Citeas:J.Vac.Sci.Technol.A40,022602(2022);/10.1116/6.0001603

    Submitted:08November2021•Accepted:06January2022•PublishedOnline:27January2022

    YebinLee,YongjaeKim,JiwonS

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