1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 办公文档
  5. 说明文书

CN119506853A 改善非晶硅膜厚均一性的方法 （上海新微技术研发中心有限公司）.pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约7.26千字
  • 约 7页
  • 2026-08-18 发布于重庆
  • 举报

CN119506853A 改善非晶硅膜厚均一性的方法 （上海新微技术研发中心有限公司）.pdf

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119506853A

    (43)申请公布日2025.02.25

    (21)申请号202411690042.2

    (22)申请日2024.11.22

    (71)申请人上海新微技术研发中心有限公司

    地址201800上海市嘉定区城北路235号1

    号楼

    (72)发明人云厚勤

    (74)专利代理机构上海光华专利事务所(普通

    合伙)31219

    专利代理师余明伟

    (51)Int.Cl.

    C23C16/52(2006.01)

    C23C16/24(2006.01)

    权利要求书1页说明书4页附图1页

    (54)发明名称

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >