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2026年专利代理师《专利代理实务》专项训练试题汇编

考试时间：______分钟总分：______分姓名：______

一、某发明涉及一种用于半导体制造的光刻胶固化方法，包括以下步骤：

1.将包含至少一种光刻胶成分的混合物涂覆在半导体衬底上；

2.使用特定波长的紫外光对涂覆的混合物进行曝光；

3.对曝光后的混合物进行加热，使其固化。

该方法旨在提高固化效率并改善固化后薄膜的均匀性。请根据专利法及相关规定，回答以下问题：

1.如果步骤3中使用的加热温度高于该光刻胶成分的玻璃化转变温度，对权利要求的保护范围会产生何种影响？请说明理由。

2.如果步骤2中使用的紫外光波长对所述至少一种光刻胶成分具有选择性吸收特性，这如何有助于权利要求的保护？请结合专利法关于新颖性和创造性的规定进行阐述。

3.假设权利要求1仅包含了步骤1、步骤2和步骤3，未对温度、波长等具体参数进行限定。当存在另一项现有技术A，其公开了一种类似的半导体光刻胶固化方法，该方法也包括涂覆、曝光和加热步骤，但未明确说明加热温度需高于玻璃化转变温度，仅提及在100°C至200°C范围内加热。请分析权利要求1相对于现有技术A是否具备新颖性？并说明判断依据。

二、某专利申请的权利要求2如下：

“一种根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤3中的加热温度为T，且T满足不等式：T≥(T