ISO 19383：2026 原子层沉积 原子层沉积前驱体的化学特性和相关工艺规范标准立项发展报告.docx

原子层沉积原子层沉积前驱体的化学特性和相关工艺规范标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:Atomiclayerdeposition—Chemicalcharacteristicsandrelatedprocessspecificationsofatomiclayerdepositionprecursors

摘要

原子层沉积（AtomicLayerDeposition,ALD）技术因其在亚纳米尺度上精确控制薄膜厚度和成分的独特优势，已成为先进半导体制造、新能源器件、光学镀膜及纳米功能材料制备等领域的核心关键技术。前驱体作为ALD工艺的原料基石，其化学特性（包括挥发性、热稳定性、反应活性及纯度等）直接决定了薄膜沉积质量、工艺可控性与产业化可行性。然而，全球范围内长期缺乏统一的前驱体化学特性评价标准与工艺规范，导致不同研究机构和企业之间数据互认困难，严重制约了ALD技术的标准化进程与跨行业应用推广。在此背景下，国际标准化组织（ISO）正式发布ISO19383:2026《原子层沉积原子层沉积前驱体的化学特性和相关工艺规范》。本标准首次在国际层面系统界定了ALD前驱体的化学特性评价指标体系，建立了涵盖热重分析、差示扫描量热法、蒸气压测定、核磁共振波谱分析及电感耦合等离子体质谱等方法的标准化测试规程，并