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半导体前道远程等离子体源氟自由基密度测量：光学发射光谱设备与NF3等离子体模型竞争

摘要

本报告聚焦半导体前道制程远程等离子体源（RPS）清洗中，氟自由基密度定量诊断这一关键竞争交叉点，深度剖析MKSInstruments与HORIBA两家核心设备商在光学发射光谱（OES）actinometry技术路线上的博弈。核心发现表明，竞争已从单纯的硬件光谱分辨率比拼，演变为“Ar/NF3流量比调控策略”与“内置等离子体动力学模型算法”的协同竞争。

报告第一章阐明分析背景，即随着3DNAND与先进逻辑节点对无损伤清洗精度要求跃升，实时、精准的氟原子浓度监测成为工艺闭环控制的核心瓶