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2026年专利代理师专利风险排查考试真题及答案

一、单项选择题（共15题，每题2分，共30分）

1.某科技公司提交的AI辅助生成的半导体光刻工艺专利申请，排查时发现核心工艺参数系大语言模型基于公开专利数据集训练后输出，未记载人类技术人员的创造性贡献说明，根据2025年修订的《专利审查指南》，该申请存在的首要风险是？

A.公开不充分B.权利主体不适格C.不满足创造性要求D.不属于可授权客体

答案：B

解析：2025年修订的《专利审查指南》明确规定，AI自动生成的技术方案若无法证明存在人类技术人员的创造性贡献，申请人无权主张该技术方案的专利权，属于权利主体不适格情形，国知局将直接驳回该类申