CN119115262A 一种用于微射流激光的自动翻面滚圆装置及方法 (西安晟光硅研半导体科技有限公司).pdfVIP

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  • 2026-08-27 发布于重庆
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CN119115262A 一种用于微射流激光的自动翻面滚圆装置及方法 (西安晟光硅研半导体科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119115262A

(43)申请公布日2024.12.13

(21)申请号202411608106.X

(22)申请日2024.11.12

(71)申请人西安晟光硅研半导体科技有限公司

地址710100陕西省西安市国家民用航天

产业基地航天南路中国电科西安产业

园6号楼3楼东侧

(72)发明人陈磊杨森郭瑞张聪张国超

刘弘光李高明

(74)专利代理机构西安嘉思特知识产权代理事

务所(普通合伙)61230

专利代理师勾慧敏

(51)Int.Cl.

B23K26/38(2014.01)

B23K26/146(2014.01)

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