CN119144964A 一种半导体芯片cmp后清洗液、其制备方法与应用 （大连奥首科技有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119144964A

(43)申请公布日2024.12.17

(21)申请号202411620242.0

(22)申请日2024.11.14

(71)申请人大连奥首科技有限公司

地址116023辽宁省大连市高新技术产业

园区火炬路1号A座2层201-1号

(72)发明人侯军吕晶褚雨露董晴

(74)专利代理机构大连大工智讯专利代理事务

所(特殊普通合伙)21244

专利代理师崔雪

(51)Int.Cl.

C23G1/18(2006.01)

B08B3/08(2006.01)

C23G1/20(2006.01)