电子级超纯臭氧发生器标准化发展研究报告.docxVIP

电子级超纯臭氧发生器行业标准修订研究报告

Keywords:Electronic-GradeUltra-PureOzone;OzoneGenerator;IntegratedCircuit;IndustryStandardRevision;SemiconductorEquipment;ProcessGas

摘要

一、引言1.1研究背景集成电路产业是信息技术产业的核心，是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业。近年在国家政策支持与市场需求双重驱动下，我国集成电路产业保持高速增长态势。据中国半导体行业协会统计，2023年我国集成电路产业销售额突破1.2万亿元，同比增长6.3%。随着晶圆制造工艺节点从28nm向14nm、7nm乃至更先进制程演进，对工艺用化学品的纯度要求日趋严苛，电子级超纯臭氧作为集成电路制造中重要的氧化剂和清洗剂，其品质直接关系到芯片制造的良品率与器件性能。电子级超纯臭氧主要应用于集成电路制造过程中的光刻胶去除（Ashing）、晶圆表面清洗（Cleaning）、栅氧化层生长（GateOxidation）、化学气相沉积后的清洁处理（Post-CVDCleaning）等关键工艺环节。与传统的湿法化学清洗工艺相比，超纯臭氧气相清洗技术具有无残留、无损伤、环境友好等显著优势，已成为先进制程中不可或缺的关键工艺技术。